外媒：臺(tái)積電4月份開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)5nm芯片

3月11日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，為蘋(píng)果、華為等公司代工芯片的臺(tái)積電，將在4月份開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)5nm芯片。

外媒是援引行業(yè)方面的消息，報(bào)道臺(tái)積電將在4月份開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)5nm芯片的，臺(tái)積電5nm工藝的產(chǎn)能，也已被相關(guān)客戶(hù)全部預(yù)定，不過(guò)外媒并未透露臺(tái)積電4月份開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)的是哪一家公司的芯片。

5nm工藝是繼2018年量產(chǎn)的7nm工藝之后，芯片制造方面的新一代先進(jìn)工藝，臺(tái)積電在5nm方面也已研發(fā)多年，去年就已開(kāi)始試產(chǎn)。

在1月16日的2019年第四季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，臺(tái)積電CEO、副董事長(zhǎng)魏哲家也談到了5nm工藝，當(dāng)時(shí)他是透露5nm工藝進(jìn)展順利，將在今年上半年大規(guī)模量產(chǎn)，外媒目前報(bào)道的4月份量產(chǎn)，也在魏哲家此前透露的量產(chǎn)時(shí)間范圍內(nèi)。

魏哲家在1月份的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上還曾透露，同2018年量產(chǎn)的7nm工藝相比，5nm是完整的工藝節(jié)點(diǎn)跨越，可使晶體管的密度在理論上提升80%，速度提升20%。

5nm工藝大規(guī)模量產(chǎn)，也會(huì)給臺(tái)積電帶來(lái)可觀的營(yíng)收，在1月份的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，魏哲家就提到，他們預(yù)計(jì)在移動(dòng)設(shè)備和高性能計(jì)算機(jī)的推動(dòng)下，5nm的產(chǎn)能在下半年將有快速且平穩(wěn)的增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)今年能貢獻(xiàn)臺(tái)積電10%的營(yíng)收。

從臺(tái)積電官網(wǎng)所公布的消息來(lái)看，他們將在Fab 18廠為相關(guān)客戶(hù)生產(chǎn)5nm芯片。臺(tái)積電官網(wǎng)的信息還顯示，5nm工藝是臺(tái)積電第二項(xiàng)應(yīng)用極紫外光刻技術(shù)的芯片工藝，具有良好的成像能力，預(yù)計(jì)也會(huì)有更好的良品率。

同目前成熟的7nm工藝一樣，臺(tái)積電未來(lái)也會(huì)不斷對(duì)這一工藝進(jìn)行改進(jìn)，將是未來(lái)一段時(shí)間主要的芯片工藝，魏哲家此前也曾表示，他們將繼續(xù)通過(guò)5nm工藝解決方案改善芯片的性能、能耗和晶體管密度，他們有信心5nm會(huì)成為臺(tái)積電另一項(xiàng)大的、長(zhǎng)期的工藝。

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