8月25日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,芯片代工商臺(tái)積電近幾年在芯片制程工藝方面走在行業(yè)的前列,在2018年的4月份率先量產(chǎn)7nm工藝之后,更先進(jìn)的5nm工藝也已在今年一季度大規(guī)模投產(chǎn),為蘋(píng)果、華為等客戶代工最新的處理器。
從外媒最新的報(bào)道來(lái)看,同此前的7nm工藝一樣,臺(tái)積電的5nm工藝也不會(huì)只有一代,他們還會(huì)推出第二代的5nm工藝。
外媒是在報(bào)道臺(tái)積電全球技術(shù)論壇時(shí),提及臺(tái)積電正在研發(fā)第二代的5nm工藝的,今天開(kāi)始的2020年臺(tái)積電全球技術(shù)論壇,是他們舉辦的第二十六屆全球技術(shù)論壇。
外媒在報(bào)道中表示,臺(tái)積電正在研發(fā)第二代5nm工藝,也就是N5P工藝,用于高性能應(yīng)用的產(chǎn)品,計(jì)劃在2021年大規(guī)模量產(chǎn)。
在第一代的5nm工藝今年量產(chǎn)之后,第二代的5nm工藝計(jì)劃在明年投產(chǎn),兩代工藝投產(chǎn)之間的時(shí)間間隔,同7nm工藝也基本相同。臺(tái)積電的7nm工藝目前共有兩代,第一代在2018年的4月份大規(guī)模投產(chǎn),第二代在2019年投產(chǎn)。
同兩代7nm工藝一樣,臺(tái)積電兩代5nm工藝,性能也會(huì)有改進(jìn)。外媒在報(bào)道中就提到,同第一代的5nm工藝相比,第二代的5nm工藝所制造的芯片,性能將會(huì)提升5%,能耗將降低10%。
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