小鯨產(chǎn)業(yè)鏈|半年時(shí)間板塊市值增178% 光刻膠行業(yè)憑啥這么牛

財(cái)聯(lián)社（上海，編輯胡劼）訊，近日，南大光電光刻膠通過國(guó)家驗(yàn)收，可用于高端7nm制程，意味著我國(guó)距離實(shí)現(xiàn)高端芯片的自主化又進(jìn)了一步。這對(duì)于下游芯片制造商是個(gè)好消息，這勢(shì)必會(huì)緩解國(guó)外供應(yīng)商縮供、斷供帶來的生產(chǎn)壓力。

今年以來，光刻膠板塊大幅上漲。從WIND數(shù)據(jù)來看，1月光刻膠板塊總市值為900多億元，僅僅過了半年的時(shí)間，板塊總市值就達(dá)到了2500億元。相關(guān)概念個(gè)股表現(xiàn)搶眼。強(qiáng)力新材、上海新陽自下半年以來股價(jià)一路上揚(yáng)，南大光電更是從6月1日收盤價(jià)35.19元，漲到了近期高點(diǎn)83.58元，兩個(gè)月實(shí)現(xiàn)股價(jià)翻倍。

數(shù)據(jù)來源：Wind

作為芯片制造的 “燃料”，光刻膠的質(zhì)量和性能決定了集成電路的良品率。光刻工藝復(fù)雜，大約會(huì)耗費(fèi)一半的芯片制造時(shí)間，成本大約占整個(gè)芯片制造的35%，而光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場(chǎng)空間極大?？梢哉f，光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

那么，光刻膠的原料有哪些？生產(chǎn)流程又是怎樣的？

鯨平臺(tái)根據(jù)公開資料了解到，光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。光刻膠是對(duì)光敏感的混合液體，主要由光引發(fā)劑、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑組成。其中，樹脂型聚合物是光刻膠的主要成分。

目前，先進(jìn)芯片制造的光刻膠幾乎都被外資企業(yè)壟斷，壁壘究竟在哪?

答案是：高端半導(dǎo)體用光刻膠領(lǐng)域

目前，我國(guó)存在光刻膠供給不足的現(xiàn)實(shí)問題。據(jù)天風(fēng)證券研究所，光刻膠上游原材料市場(chǎng)長(zhǎng)期被日韓廠商壟斷，國(guó)內(nèi)從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少，如感光樹脂方面的強(qiáng)力新材、山東圣泉，單體方面的萬潤(rùn)股份、徐州博康。在光刻膠設(shè)備供應(yīng)商方面，由于技術(shù)門檻高國(guó)內(nèi)在上游設(shè)備市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力和議價(jià)能力均不強(qiáng)，主要依賴美國(guó)、日本、荷蘭等國(guó)。即使是北京科華電子和蘇州瑞紅等國(guó)內(nèi)光刻膠制造龍頭，在高端半導(dǎo)體用光刻膠領(lǐng)域仍與國(guó)外知名廠商有較大差距，主要是因?yàn)榧夹g(shù)和客戶認(rèn)證方面存在較高壁壘。

光刻膠定制化程度很高，想要對(duì)光刻膠成品進(jìn)行逆向分析、仿制幾乎不可能。TrendBank數(shù)據(jù)表明，全球光刻膠研制專利主要分布在日本和美國(guó)，占比高達(dá)82%，也就是說，光刻膠核心技術(shù)還是在日本、歐美企業(yè)手中。此外，光刻膠生產(chǎn)出來，還要在下游企業(yè)進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)1-3年的審核認(rèn)證，產(chǎn)品測(cè)試成本很高。

光刻膠行業(yè)盈利能力整體較高。根據(jù)晶瑞股份公開信息，其光刻膠產(chǎn)品毛利在50%左右，上海新陽光刻膠項(xiàng)目效益測(cè)算數(shù)據(jù)顯示，穩(wěn)定產(chǎn)生收益后，項(xiàng)目的毛利率和凈利率分別有望達(dá)到55%以上和40%以上。

鯨平臺(tái)認(rèn)為，對(duì)國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)來說，未來ArF光刻膠有望成新的業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)點(diǎn)。國(guó)聯(lián)證券表示，在ArF、高端KrF等半導(dǎo)體光刻膠方面，國(guó)內(nèi)光刻膠需求量遠(yuǎn)大于國(guó)產(chǎn)產(chǎn)量，且差額呈現(xiàn)連年增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，其作為“卡脖子”產(chǎn)品的國(guó)產(chǎn)化需求十分迫切。

一圖看懂：光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈全景圖

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈可以分為上游原材料及設(shè)備，中游制造和下游應(yīng)用三個(gè)環(huán)節(jié)。由于上游產(chǎn)品質(zhì)量對(duì)最終產(chǎn)品性能影響重大，通常采用“認(rèn)證采購(gòu)”模式，因此，上下游廠商合作模式較為穩(wěn)定。

鯨平臺(tái)整理 資料來源：頭豹研究院

上游競(jìng)爭(zhēng)格局：美、日、韓廠商壟斷

全球上游原材料的主要生產(chǎn)企業(yè)分布于日本、美國(guó)、中國(guó)等地。據(jù)頭豹研究院，所屬地在日本的企業(yè)占比為49%，中國(guó)企業(yè)數(shù)量占比有29%，但各個(gè)企業(yè)在光刻膠專用化學(xué)品上的產(chǎn)量和規(guī)模較小，品種規(guī)格較為單一，分布極不均衡。在PCB光刻膠上游原材料領(lǐng)域，各國(guó)企業(yè)分布較為均衡，而在面板顯示和半導(dǎo)體光刻膠上游原材料領(lǐng)域，基本上被美、日、韓等廠商壟斷。

百級(jí)凈化車間內(nèi)光刻膠研發(fā)現(xiàn)場(chǎng)

在光刻膠行業(yè)有多年市場(chǎng)運(yùn)營(yíng)經(jīng)驗(yàn)的專家表示，在光刻膠溶劑方面，中國(guó)僅有小部分企業(yè)從事研發(fā)和生產(chǎn)，但溶劑生產(chǎn)量供不應(yīng)求，無法滿足中國(guó)光刻膠制造商的需求。在樹脂方面，中國(guó)處于起步發(fā)展階段，目前彤程新材、百川股份具備樹脂生產(chǎn)能力，但生產(chǎn)的樹脂質(zhì)量不穩(wěn)定，主要應(yīng)用于低端的PCB光刻膠領(lǐng)域。在光引發(fā)劑方面，強(qiáng)力新材在光引發(fā)劑技術(shù)方面具有領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，但其光引發(fā)劑主要應(yīng)用在PCB光刻膠領(lǐng)域。當(dāng)前，應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示器的光刻膠光引發(fā)劑仍依靠進(jìn)口，市場(chǎng)主要被日本企業(yè)東京應(yīng)化所壟斷。

上游設(shè)備：ASML壟斷約90%市場(chǎng)

2020年全球共銷售413臺(tái)光刻機(jī)，其中ASML銷售258臺(tái)，占比62%；Canon銷售122 臺(tái)（KrF、i-line），占比 30%，Nikon銷售33臺(tái)占比 8%。按銷售額計(jì)算，ASML、Canon、Nikon 的光刻機(jī)銷售額占比依次是 91%、3%、6%。受先進(jìn)封裝的推動(dòng)，中低端光刻機(jī)（KrF、i-Line）市場(chǎng)需求量較高，2020年銷量占比共65%，但由于中低端光刻機(jī)的技術(shù)壁壘較低，行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)者數(shù)量較多， Canon和Nikon憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)占據(jù)中低端光刻機(jī)市場(chǎng)的主導(dǎo)地位。在超高端和高端光刻機(jī)（EUV、ArF、ArF dry）領(lǐng)域，由于擁有極高的技術(shù)壁壘，已成為高度壟斷的行業(yè)領(lǐng)域，35%的銷量占據(jù)行業(yè)86%的銷售額，ASML在該領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。

中游：日本在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域獨(dú)占鰲頭

在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，市場(chǎng)呈現(xiàn)出寡頭壟斷的競(jìng)爭(zhēng)格局，行業(yè)內(nèi)6家企業(yè)龍頭占據(jù)了全球87%的市場(chǎng)份額，其中5家均為日本企業(yè)。

圖片來源：頭豹研究院

中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)能集中在中低端領(lǐng)域。目前，半導(dǎo)體光刻膠中國(guó)自給率極低，低端的g線/i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12英寸硅片的ArF光刻膠完全依賴進(jìn)口，最先進(jìn)的EUV光刻膠目前僅有少數(shù)幾家海外公司掌握了相關(guān)技術(shù)，且未實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

南大光電在高端領(lǐng)域取得突破。其自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用認(rèn)證，可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。鯨平臺(tái)認(rèn)為，這意味著中國(guó)在ArF光刻膠制造上終于打破海外廠商壟斷的競(jìng)爭(zhēng)格局。目前，南大光電已投建產(chǎn)能為25噸的ArF光刻膠生產(chǎn)線，預(yù)計(jì)在2021年底可完成量產(chǎn)。

下游：半導(dǎo)體制造重心轉(zhuǎn)移 預(yù)計(jì)2025年國(guó)產(chǎn)化率達(dá)19%

受益于國(guó)產(chǎn)化加速及半導(dǎo)體市場(chǎng)需求旺盛，中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)保持快速增長(zhǎng)，市場(chǎng)規(guī)模由2016年的15.1億元增長(zhǎng)至2020年的19億元。中國(guó)本土企業(yè)（如南大光電、晶瑞股份等）在中高端半導(dǎo)體光刻膠（如ArF光刻膠）的技術(shù)領(lǐng)域已有所突破，未來中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)勢(shì)必將保持快速增長(zhǎng)趨勢(shì)。

根據(jù)IC Insights數(shù)據(jù)，中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模由2016年的1,057億美元增長(zhǎng)至2020年的1,511億美元，中國(guó)半導(dǎo)體制造本土制造總額由2016年的152億美元增長(zhǎng)至2020年的227億美元，約占中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模的15%。預(yù)計(jì)未來受國(guó)產(chǎn)化加速、政策扶持、企業(yè)優(yōu)惠補(bǔ)貼等利好因素，中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模與本土制造總額將持續(xù)增長(zhǎng)，在2025年中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模達(dá)2,274億美元，國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)到19%。

圖片來源：頭豹研究院

受益于LCD行業(yè)的高速發(fā)展，其上游LCD光刻膠產(chǎn)業(yè)興起。據(jù)頭豹研究院，中國(guó)LCD光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模（按銷售額計(jì)）從2016年的26.3億元迅速增長(zhǎng)至2020的46.2億元，年復(fù)合增長(zhǎng)率約15%。而在PCB業(yè)務(wù)上，中國(guó)作為全球最大的PCB生產(chǎn)國(guó)，擁有相對(duì)較低的生產(chǎn)成本和完整的產(chǎn)業(yè)鏈，預(yù)計(jì)中國(guó)PCB產(chǎn)值在2025年達(dá)到420億美元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率4.5%，實(shí)現(xiàn)穩(wěn)步上升。

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