9月18日消息，近期，一則消息在各大視頻平臺(tái)廣為傳播，稱清華大學(xué) EUV 項(xiàng)目把 ASML 的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
對(duì)此，中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院有限公司（下稱“中國(guó)電子院”）18日下午發(fā)聲，稱該項(xiàng)目并非網(wǎng)傳的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目（HEPS）。
中國(guó)電子院表示，簡(jiǎn)單的說(shuō)，HEPS 可以看成是一個(gè)超精密、超高速、具有強(qiáng)大穿透力的巨型 X 光機(jī)。它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進(jìn)行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS 是進(jìn)行科學(xué)實(shí)驗(yàn)的大科學(xué)裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機(jī)工廠。
中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院有限公司創(chuàng)建于 1953 年，曾先后隸屬于電子工業(yè)部、信息產(chǎn)業(yè)部，2003 年由國(guó)務(wù)院國(guó)資委管理，2009 年并入國(guó)家開(kāi)發(fā)投資集團(tuán)有限公司。
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