佳能光刻機價格或比ASML EUV設備便宜更多

11月6日消息，佳能計劃將其新型芯片制造設備的定價定在ASML最先進的光刻機成本的一小部分，以期在尖端設備領域取得進展。

集微網報道，佳能CEO御手洗富士夫表示，該公司的新納米壓印技術將為小型半導體制造商生產先進芯片開辟一條道路，目前這種技術幾乎完全屬于該行業(yè)最大的公司。這款產品的價格將比ASML的EUV設備低一位數，不過最終的定價決定還沒有做出。

據悉，ASML是極紫外光刻工具的唯一供應商，極紫外光刻工具是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值數億美元。EUV設備是數十年研究和投資的產物，對于大規(guī)模生產速度最快、最節(jié)能的芯片至關重要。

只有少數現金充裕的公司有能力投資于這些工具，這些工具目前正因其在科技供應鏈中的關鍵地位而受到審查。在美國向其盟友施壓，要求其限制技術流向中國之后，ASML被禁止向中國客戶出口EUV系統。

這給佳能上個月上市的新工具帶來了希望。7月，日本擴大了對芯片制造出口的限制，但沒有明確提到納米壓印光刻技術。御手洗富士夫稱，佳能可能無法將這些機器運往中國。14納米技術以外的任何產品都是禁止出口的。

據了解，佳能與大日本印刷和存儲芯片制造商鎧俠合作研究納米壓印工藝已有近十年的時間。與通過反射光工作的極紫外光刻技術不同，佳能的技術將電路圖案直接印在晶圓上，從而制造出據稱與最先進節(jié)點相當的幾何形狀的芯片，盡管速度要慢得多。這臺新機器讓芯片制造商可以選擇降低對代工廠的依賴，同時也讓臺積電和三星電子等代工芯片制造商更有可能批量生產芯片。佳能表示，這種機器所需的功率只有其EUV同類產品的十分之一。

御手洗富士夫表示：“我不認為納米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創(chuàng)造新的機會和需求，我們已經收到了很多客戶的咨詢。”

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