第二代EUV光刻機(jī)曝光，手機(jī)芯片工藝升級(jí)至1納米？

原標(biāo)題：第二代EUV光刻機(jī)曝光，手機(jī)芯片工藝升級(jí)至1納米？

近日，有韓媒報(bào)道稱，全球最著名的光刻機(jī)公司ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，這標(biāo)志著，半導(dǎo)體制造工藝又或要升級(jí)一個(gè)新臺(tái)階，CPU芯片、手機(jī)芯片等不久后又要升級(jí)換代了？

據(jù)悉，與現(xiàn)有的光刻機(jī)相比，第二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，而通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。

而據(jù)之前ASML公司公布消息顯示，ASML新一代EUV光刻機(jī)的量產(chǎn)時(shí)間是2024年，盡管最新的報(bào)道稱下一代EUV光刻機(jī)2025年量產(chǎn)，但相比現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)僅能量產(chǎn)7nm產(chǎn)品的情況下，已經(jīng)是劃時(shí)代的進(jìn)步了。消息顯示，在第二代EUV光刻機(jī)真正出現(xiàn)時(shí)，臺(tái)積電、三星已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝，甚至開(kāi)始進(jìn)軍2nm、1nm產(chǎn)品階段了。

目前，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)就是荷蘭ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，每臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億美元，而且供不應(yīng)求。據(jù)悉，2016年，ASML公司斥資20億美元收購(gòu)德國(guó)蔡司公司25%的股份，并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡，而ASM公司L這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)。

2018年10月，ASML公司又與IMEC比利時(shí)微電子中心合作研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，目標(biāo)是將NA從0.33提升到0.5以上，而從光刻機(jī)的分辨率公式——光刻機(jī)分辨率=k1*λ/NA中可以看出，NA數(shù)字越大，光刻機(jī)分辨率越高，所以提高NA數(shù)值孔徑是下一代EUV光刻機(jī)的關(guān)鍵。

我們知道，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻，成本能占到整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的1/3，因此，光刻機(jī)成為最重要的半導(dǎo)體制造裝備。2019年，臺(tái)積電、三星開(kāi)始量產(chǎn)7nm EUV工藝產(chǎn)品。而到2020年，5nm開(kāi)始量產(chǎn)，EUV光刻機(jī)或許又面臨一次升級(jí)。

除此之外，中國(guó)內(nèi)地最大的芯片代工企業(yè)中芯國(guó)際在2018年就成功預(yù)定了一臺(tái)ASML的7nm EUV（極紫外）光刻機(jī)。當(dāng)時(shí)，ASML負(fù)責(zé)人在公司財(cái)報(bào)會(huì)上透露稱，2019年要出貨30臺(tái)EUV設(shè)備，這對(duì)于正在積極發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)的中國(guó)市場(chǎng)來(lái)說(shuō)是個(gè)很好的消息。但截至目前，并沒(méi)有那么多數(shù)量的EUV光刻機(jī)賣給中國(guó)公司。

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