單臺價格7.2億美元！ASML計劃2030年推Hyper-NA EUV光刻機

隨著半導體行業(yè)技術的不斷進步，ASML公司即將在2030年推出Hyper-NA EUV設備，這一設備將能夠支持1納米以下的先進工藝技術，預計其價格將超過7.2億美元，比前代產品搞出一倍。分析稱，盡管價格昂貴，但臺積電、三星電子和英特爾這三家芯片代工制造巨頭，還是會爭先恐后采購這一最新光刻機。

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