國產(chǎn)光刻機取得重大進展 氟化氬光刻機套刻≤8nm

9月15日消息，從工業(yè)和信息化部在官網(wǎng)公布的《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》來看，國產(chǎn)光刻機已取得重大突破，氟化氬光刻機套刻≤8nm。

在《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中，也公布了氟化氬光刻機其他的核心技術(shù)指標，晶圓直徑300mm，照明波長193nm，分辨率≤65nm。

此外，《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中還有氟化氪光刻機，晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。

除了光刻機，工信部在印發(fā)的《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中，還有多類集成電路生產(chǎn)裝備，包括硅外延爐、濕法清洗機、氧化爐、涂膠顯影機、高能離子注入機、低能離子注入機、等離子干法刻蝕機、特種金屬膜層刻蝕機、化學(xué)氣相沉積裝備、物理氣相沉積裝備、化學(xué)機械拋光機、激光退火裝備、光學(xué)線寬量測裝備。

光刻機、刻蝕機等芯片生產(chǎn)關(guān)鍵設(shè)備取得突破，也就意味著我國芯片制造商在關(guān)鍵設(shè)備上有了更先進的國產(chǎn)設(shè)備可用，有利于芯片產(chǎn)業(yè)鏈的國產(chǎn)化，也將提升國產(chǎn)芯片的水平，保障供應(yīng)。

工信部在官網(wǎng)公布的《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》，包括15大類重大技術(shù)裝備，除了長期困擾我國芯片產(chǎn)業(yè)的光刻機，還有高端工業(yè)母機、高端醫(yī)療裝備、精密儀器儀表等。（海藍）

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