2nm以下芯片必備！英特爾率先完成組裝ASML新一代光刻機

快科技4月19日消息，今天芯片巨頭英特爾宣布，已率先組裝阿斯麥（ASML）的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機，并稱這是其超越競爭對手的重要一步。

去年12月，阿斯麥確認向英特爾交付首臺高數值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)，這臺機器的售價高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。

英特爾光刻主管馬克·菲利普斯表示：“我們在決定購買這些設備時就已經認可了它們的價格。如果我們不認為這些設備物有所值，我們根本不會采購。”

此前英特爾CEO基辛格曾表示，該設備將會被應用于1.8nm以下的挑戰(zhàn)。

除了英特爾外，臺積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這款機器，但由于該設備的運輸和安裝可能需要長達六個月的時間，因此英特爾此舉已經領先了對手至少半年。

而英特爾決定要率先采用高數值孔徑極紫外光刻機也并非偶然。

英特爾雖曾參與開發(fā)極紫外光刻技術，但在開始使用阿斯麥首款極紫外光刻機上卻晚于其競爭對手臺積電，基辛格也承認，這是一個嚴重的失誤。

菲利普斯也表示：“現在我們已經有了期待已久的新一代極紫外光刻機，我們不想再犯過去的錯誤。”

生成海報

免責聲明：本網站內容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網站出現的信息，均僅供參考。本網站將盡力確保所提供信息的準確性及可靠性，但不保證有關資料的準確性及可靠性，讀者在使用前請進一步核實，并對任何自主決定的行為負責。本網站對有關資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負任何法律責任。任何單位或個人認為本網站中的網頁或鏈接內容可能涉嫌侵犯其知識產權或存在不實內容時，應及時向本網站提出書面權利通知或不實情況說明，并提供身份證明、權屬證明及詳細侵權或不實情況證明。本網站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯系相關文章源頭核實，溝通刪除相關內容或斷開相關鏈接。