科技企業(yè)高管說了實話，能搞定7納米已很了不起，5納米不容易！

某科技企業(yè)的高管在接受采訪的時候表示當前能搞定7納米已是很了不起的成就，那些動不動就吹噓說突破5納米、3納米脫離了現(xiàn)實，這無疑是在當下躁動的社會中給予重錘，提醒各方不要過于狂妄自大。

該名高管表示我們芯片制造的技術與國際還有較大差距，婉轉(zhuǎn)地說出芯片制造工藝并不能單純靠人力來進行技術突破，設備才是芯片制造的關鍵，沒有先進的設備，先進芯片制造工藝就無米下鍋。

在開發(fā)先進芯片方面，應該轉(zhuǎn)變思路，通過加強系統(tǒng)架構(gòu)、軟件算法和異構(gòu)計算的研究，可以在技術上找到補償，從而研發(fā)出高性能的芯片，在先進芯片技術競爭中找到獨特的優(yōu)勢和特色。

這揭示了芯片制造的事實，芯片是一種高精密的產(chǎn)品，早已脫離了人力掌控的范圍，需要借助多種先進設備實現(xiàn)。在芯片設計階段，就已引入了現(xiàn)代化的芯片設計工具，高度密集的晶體管，完全不是人力畫圖能實現(xiàn)，需要借助計算機來進行繪圖，然后交給芯片工廠的設備，芯片工廠的設備同樣需要依賴先進的芯片工具來解釋圖紙然后生產(chǎn)芯片。

對于芯片制造來說，也早已超出了人力范圍，這幾十年芯片制造設備一直都在升級中，從早年的干式光刻機到浸潤式光刻機，再到如今的EUV光刻機，這些先進的芯片設備實現(xiàn)了人力所未能達到的高度。

全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的是ASML，而全球能生產(chǎn)光刻機的企業(yè)也只有4家左右，日本兩家，中國一家，ASML是荷蘭的，而7納米以下的光刻機就只有ASML能生產(chǎn)，因為光刻機是高度精密的儀器，即使強如ASML，也只能生產(chǎn)EUV光刻機大約10%的部件，其他部件需要全球5000多家企業(yè)合作。

全球制造芯片技術最先進的僅有三星和臺積電，美國的Intel曾是全球芯片制造技術領導者，不過從2014年量產(chǎn)14納米之后，Intel就放緩了創(chuàng)新的步伐，而三星和臺積電則保持了1-2年升級一代芯片制造技術的步伐，從而超過了Intel，成為芯片制造技術的領導者。

臺積電又稍微領先三星一籌，不過強如臺積電以現(xiàn)有的DUV光刻機也只是做到7納米，隨后臺積電就引入EUV光刻機生產(chǎn)出7納米EUV工藝，而且證明了EUV光刻機生產(chǎn)的7納米工藝性能較DUV光刻機生產(chǎn)大幅提升了性能并降低了功耗。

臺積電尚且無法實現(xiàn)以DUV光刻機生產(chǎn)5納米，這里的專家卻不斷吹噓可以DUV光刻機生產(chǎn)5納米，甚至突破到3納米，如今某科技企業(yè)的高管也忍不住了指出這太荒謬，人力終究有極限，以現(xiàn)有的DUV光刻機生產(chǎn)5納米并不靠譜，7納米已很可能就是極限，在無法得到先進的EUV光刻機之前，應該考慮的是芯片架構(gòu)、軟件算法等方面來提升整體性能，而不是虛妄的吹噓以DUV光刻機生產(chǎn)5納米。

技術是靠腳踏實地的研究推進的，絕不是靠吹噓實現(xiàn)的，浮躁無法實現(xiàn)先進技術，某科技企業(yè)的高管無疑給這種浮躁淋了一盆冷水，讓各方好好反思一下吹牛的風氣，思考下如何研發(fā)才是正確的方向，錯誤的方向最終只會浪費資源，無法實現(xiàn)先進技術。

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